
當(dāng)前位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 膜厚儀 > Thetametrisis膜厚儀 > FR-Mic:全自動(dòng)帶顯微鏡多點(diǎn)測(cè)量膜厚儀
                            
簡(jiǎn)要描述:硬化涂層膜厚儀是一款快速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個(gè)微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。
產(chǎn)品型號(hào):
廠商性質(zhì):代理商
產(chǎn)品資料:
更新時(shí)間:2024-11-09
訪  問  量: 1953產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準(zhǔn)確測(cè)量薄膜表征應(yīng)用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個(gè)微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺(tái)計(jì)算機(jī)控 制的XY工作臺(tái),使其快 速、方便和準(zhǔn)確地描繪樣品的厚度和光學(xué)特性圖。品牌屬于Thetametrisis。
Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對(duì)局部區(qū)域薄膜厚度,厚度映射,光學(xué)常數(shù),反射率,折射率及消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)量。
【相關(guān)應(yīng)用】
1.高校 & 研究所實(shí)驗(yàn)室
2.半導(dǎo)體制造
3.(氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導(dǎo)體薄膜.)
4.MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)
5.LEDs, VCSELs
6.數(shù)據(jù)存儲(chǔ)
7.陽(yáng)極處理
8.曲面基底的硬鍍及軟鍍
9.聚合物膜層, 粘合劑
10.生物醫(yī)學(xué)(聚對(duì)二甲苯, 生 物膜/氣泡壁厚度.)
11.還有許多…
【Thetametrisis膜厚儀特點(diǎn)】
1、實(shí)時(shí)光譜測(cè)量
2、薄膜厚度,光學(xué)特性,非均勻性測(cè)量, 厚度映射
3、使用集成的,USB連接高品質(zhì)彩色攝像機(jī)進(jìn)行成像

【Thetametrisis膜厚儀產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)】
1、單擊即可分析 (無(wú)需初始預(yù)測(cè))
2、動(dòng)態(tài)測(cè)量
3、包含光學(xué)參數(shù) (n & k, color)
4、可保存測(cè)量演示視頻錄像
5、超過 600 種不同材料o 多個(gè)離線分析配套裝置o 免費(fèi)操作軟件升級(jí)
【技術(shù)參數(shù)】
*測(cè)量面積(收集反射或透射信號(hào)的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關(guān)
型號(hào)  | UV/VIS  | UV/NIR-EXT  | UV/NIR-HR  | DUV/NIR  | VIS/NIR  | DVIS/NIR  | NIR  | |
光譜波長(zhǎng)范圍(nm)  | 200–850  | 200–1020  | 200-1100  | 200–1700  | 370–1020  | 370–1700  | 900–1700  | |
光譜儀像素  | 3648  | 3648  | 3648  | 3648&512  | 3648  | 3648&512  | 512  | |
膜厚測(cè)量范圍  | 5X-VIS/NIR  | 15nm–60μm  | 15nm–70μm  | 15nm–90μm  | 15nm–150μm  | 15nm–90μm  | 15nm–150μm  | 100nm–150μm  | 
10X-VIS/NIR 10X-UV/NIR*  | 4nm–50μm  | 4nm–60μm  | 4nm–80μm  | 4nm–130μm  | 15nm–80μm  | 15nm–130μm  | 100nm–130μm  | |
15X-UV/NIR*  | 4nm–40μm  | 4nm–50μm  | 4nm–50μm  | 4nm–120μm  | –  | –  | –  | |
20X-VIS/NIR 20X-UV/NIR*  | 4nm–25μm  | 4nm–30μm  | 4nm–30μm  | 4nm–50μm  | 15nm–30μm  | 15nm–50μm  | 100nm–50μm  | |
40X-UV/NIR*  | 4nm–4μm  | 4nm–4μm  | 4nm–5μm  | 4nm–6μm  | –  | –  | –  | |
50X-VIS/NIR  | –  | –  | –  | –  | 15nm–5μm  | 15nm–5μm  | 100nm–5μm  | |
測(cè)量n&k蕞小厚度  | 50nm  | 50nm  | 50nm  | 50nm  | 100nm  | 100nm  | 500nm  | |
光源  | 氘燈&鹵素?zé)?internal)  | 鹵素?zé)?internal)  | ||||||
材料數(shù)據(jù)庫(kù)  | >600不同材料  | |||||||
。
。
。
。
物鏡  | 光斑尺寸(μm)  | ||
500μm孔徑  | 250μm孔徑  | 100μm孔徑  | |
5x  | 100μm  | 50μm  | 20μm  | 
10x  | 50μm  | 25μm  | 10μm  | 
20x  | 25μm  | 17μm  | 5μm  | 
50x  | 10μm  | 5μm  | 2μm  | 
【工作原理】
*規(guī)格如有更改,恕不另行通知, 測(cè)量結(jié)果與校準(zhǔn)的光譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續(xù) 15 天測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差平均值。樣品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)方差,樣品:1um SiO2 on Si.
*超過 15 天的標(biāo)準(zhǔn)偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。
以上資料來自Thetametrisis,如果有需要更加詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們獲取。
產(chǎn)品咨詢